Disco de ruptura DonadonSDD tipo KRD

Modelo KRD
Materiais Aço inoxidável, Alloy 201, Alloy 400, Alloy 600, Alloy 625, Alloy C276, Titânio
Dimensões DN 1”(25) – DN 36”(900)
Pressões de ruptura 0,41 bar g (6 psi g)- 137 bar g (2000 psi g) (em função do material e do diâmetro)
Kr l 0,48
Tolerância de +/- 5 % a +/- 20%
Temperatura de funcionamento De - 196 °C a 480 °C
Margem operativa 90% - Capaz de alcançar o limiar de 95% de acordo com as condições de serviço
Fragmentação Não
Uso sob válvula Sim
Resistência à corrosão Ótima
Revestimentos Sim
Recipiente HR/A, HR/P, HR/F, HTC
Sensor de ruptura Elétrico, Magnético, Indutivo, Ótico
Certificação ASME [UD STAMP] Disponível
Certificação PED [CE STAMP] Disponível
Certificação ATEX EX II 2 GD Disponível

O disco de ruptura DonadonSDD tipo KRD obtido com a tecnologia NS Nanoscored é um disco de compressão ou inverso micro-gravado ao longo da circunferência.

O disco tipo KRD representa a mais recente tecnologia do setor: a bombagem do disco convexo só é modificada pela pressão de funcionamento ao atingir a pressão de inversão. Isto permite ao dispositivo operar com relações entre a pressão de funcionamento e a pressão de ruptura até 95% e resistir a milhares de ciclos sem prejudicar a fiabilidade.

No momento da inversão a abertura do disco ocorre em poucos milésimos de segundo ao longo da linha de gravação, evitando a formação de fragmentos e com abertura total. O disco tipo KRD sofre menos as alterações de temperatura em relação aos discos convencionais, como consequência, se revela particularmente adequado para aplicações que preveem amplas oscilações de temperatura.

O disco KRD, graças a seu design inovador, pode ser usado apenas na presença de líquidos, em condições de pressão cíclicas e pulsantes sem prejudicar a segurança. Além disso, é particularmente indicado para isolar válvulas de segurança. A ampla disponibilidade de materiais e a consistência das espessuras usadas permitem ao disco tipo KRD uma elevada resistência à corrosão; uma maior proteção pode ser obtida através do revestimento em PTFE aplicável no lado do processo.

Não é necessário suporte para o vácuo absoluto e é capaz de resistir a contrapressões elevadas.